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2014年11月4日,星期二,晚上8:32

通过半导体行业协会


2014年11月4日,星期二发布
WSC知识产权委员会(IPC)在日本福冈召开会议,继续开展与知识产权有关的一系列工作。该小组报告成功地影响了世界知识产权组织(WIPOI)和IP5(美国、EPC、日本、韩国和中国的专利局)在提高专利质量方面的工作。专利局多年来一直致力于专利质量,包括为成员国和地区制定一项协调其专利质量指标的计划。IPC与WIPO和IP5进行了沟通,鼓励采纳我们的建议,作为这一努力的结果,WIPO国际权威会议和IP5都成立了一个委员会,负责协调专利质量。知识产权组织指出,IPC的工作“打破了坚冰”。WSC知识产权主席给所有SIA协会负责人的信中详细介绍了这一成功在这里

IPC还继续在其他问题上开展工作。最具争议的问题是滥用专利诉讼(NPE/PAEs)。经过广泛的讨论,小组作出妥协,同意推迟对这个问题的继续讨论,直到出现新的重大问题。该小组将继续监测政府和学术界的报告和研究,比如联邦贸易委员会(Federal Trade Commission)正在进行的关于专利主张实体的研究。