氟化学品在光刻制版和半导体加工中的重要用途

发布于2022年4月20日，周三，上午10:17
作者:Sarah Ravi

Christopher K. Ober, Florian Käfer, Jingyuan Deng，“含氟化学品在光刻图案和半导体加工中的基本用途”，J. Micro/ nanoppattern。板牙。Metrol. 21(1)， 010901 (2022)， doi: 10.1117/1.JMM.21.1.010901，可在http://dx.doi.org/10.1117/1.JMM.21.1.010901